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                通知公告

                第四届国际先进光刻技术研讨会将于11月5日-6日在成都举办

                稿件来源: 发布时间:2020-04-29

                   国家发展芯片(集成电路)产业的必要性已经上升到国家战略层面,中央对于集成电路的发展也给予了极大的政策支↓持。基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning SolutionsIWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一〖个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,研讨即将面临的技术挑战。 

                  研讨会的发言者均为特邀自集成电路制造相关领域〗的国内外资深专家,代表了其所在领⌒ 域的国际先进水平。报告内容↑涉及广泛,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会为想要了解更多国内外半导体☆业界动态的研究者和工程师提供更多机会。参会者分别来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校等。第四届国际先进光刻技术研讨会将于115-6日在成都举办,欢迎报名参会。

                 

                 

                  在此之前,IWAPS已经成功举办了三届,首ㄨ届国际先进光刻技术研讨会于20171012-13日在北京举办,由集成电路产业技术创『新联盟主办,彩神8快3微电子研究所承办。报告人均来自国内外行业顶级专家,吸引了超♂过200名参会者参会。 

                 

                 

                  第二届国际先进光刻技术研讨会于20181018-19日在厦门举办,由集成电路产业技术创新联盟主办,彩神8快3※微电子研究所与厦门半导体集团共同承办,得到了厦门市海沧区政ぷ府的大力支持。此次会议的参会者超过300人,外籍参会者超60人。此次会议开辟了分会场,通稿论文征稿,吸引了更多】高校和研究所的科研人员前来参会分享成果。

                 

                 

                  第三届国际先进光刻技术研讨会于20191017-18日在南京举办,由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办々,彩神8快3微电子研究所与南京○市浦口高新区、南京市浦口区科学技术局承办,南京诚芯集成电路技术研究院协办,IEEE南京分会提供技术支持,参会者人数稳步提升。来自高校与研究所的行业内人士踊跃投稿参会■,学生与研究人员分享了〗各自最新的研究成果,通过专家委员会的评议,选出了最佳论文奖。并且依托国际期刊《Jouranl of Microelectronic Manufacturing 》(JoMM),能够让参会的中国□科研工作者、学生更便捷地发表自己的最新科研成果。 

                 

                    

                  经过3年的不懈︻努力,IWAPS已经吸引了若干固定的赞助商和国内外知名专家学者,每年的参会单位和人数都在稳步提升,构筑的产、学、研生态圈,能够为国内外业内人员提供了一个更直接的学术□ 交流平台,为本地企业提供更多合作沟通的机会,也使国际知名厂商能够更加深入地了解本地商业环境与政策。今年在成都举办的IWAPS 2020,    将会◣有更大的规模,更丰富的内容,更先进●的技术交流,敬请期待! 

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